手持式合金光譜分析儀在XRF分析法中，從X光發(fā)射管里放射出來的高能初級(jí)射線光子會(huì)撞擊樣本元素。這些初級(jí)光子含有足夠的能量可以將里層即K層或L層的電子撞擊脫軌。這時(shí)，原子變成了不穩(wěn)定的離子。由于電子本能會(huì)尋求穩(wěn)定，外層L層或M層的電子會(huì)進(jìn)入彌補(bǔ)內(nèi)層的空間。在這些電子從外層進(jìn)入內(nèi)層的過程中，它們會(huì)釋放出能量，我們稱之為二次X射線光子。

　　優(yōu)勢(shì)：

　　1.薄窗X光管，指標(biāo)達(dá)到先進(jìn)水平；

　　2.數(shù)字多道技術(shù)，讓測(cè)試更快，計(jì)數(shù)率精度更高；

　　3.SDD硅漂移探測(cè)器，良好的能量線性、能量分辨率和能譜特性，較高的峰背比，有效的提高元素的檢測(cè)限；

　　4.信噪比增強(qiáng)器（SNE），提高信號(hào)處理能力25倍以上；

　　5.低能X射線激發(fā)待測(cè)元素，對(duì)Si、P等輕元素激發(fā)效果好；

　　6.智能抽真空系統(tǒng)，屏蔽空氣的影響，大幅擴(kuò)展測(cè)試的范圍；

　　7.自動(dòng)穩(wěn)譜裝置確保了儀器工作的一致性；

　　8.高信噪比的電子線路單元，針對(duì)不同樣品自動(dòng)切換準(zhǔn)直器和濾光片，免去手工操作帶來的繁瑣；

　　9.解譜技術(shù)使譜峰分解，使被測(cè)元素的測(cè)試結(jié)果具有相等的分析精度；

　　10.多參數(shù)線性回歸方法，使元素間的吸收、增應(yīng)得到明顯的抑制；

　　11.內(nèi)置高清晰攝像頭；

　　12.液晶屏顯示讓手持式合金光譜分析儀的重要參數(shù)（管壓、管流、真空度）一目了然。

　　手持式合金光譜分析儀采用CMOS檢測(cè)器全譜測(cè)試技術(shù),可測(cè)試覆蓋波長(zhǎng)范圍內(nèi)的所有譜線，配置和補(bǔ)充測(cè)試基體、通道、分析程序極為方便。儀器體積小巧，方便維護(hù)和實(shí)驗(yàn)室放置，是全面測(cè)試鋼鐵和有色金屬材料元素的通用型儀器，可以滿足包括:Fe基體、Cu基體、Al基體、Ti基體、Pb基體、Mg基體、Co基體等基體要求,是金屬元素分析的優(yōu)選擇。